- 通知公告
关于举办<香港应用技术研究院研发成果推介交流会>的通知
信息来源： 发布日期：2011-09-13 阅读次数：2276
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各有关会员企业:
由宁波国家高新区管委会邀请香港应用技术研究院副总裁王克中博士于2011年9月16日来甬，与宁波电子行业企业就香港应用技术研究院部分研发成果进行交流，并探讨合作可能。
香港应用技术研究院以创新科技和顾客导向为方针，配合业界的需要而进行应用研究，其研究范畴主要包含五个科技领域:通讯技术、企业与消费电子、集成电路设计、材料与构装技术及生物医学电子。
举办时间：2011年9月16日（周五）14:45—17:30
举办地点：宁波研发园（高新区聚贤路扬帆路口）
B5号楼4楼401会议室
希各会员企业积极参加,在9月13日前将回执传真或邮件给电子行业协会,谢谢!
联系人：任奉波、俞雪珑 电话：13566308946 传真：87294643
邮箱:nbdzhyxh@163.com 宁波电子行业协会
2011年9月9日
会议回执表
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姓名
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单位名称
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职 务
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联系电话
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附件：
王克中博士简介
王克中博士於2009年4月获委任为香港应用技术研究院集成电路设计群组的副总裁及研发群组总监，负责制订和执行研发策略、开拓商机、制订发展蓝图，并为广泛的集成电路产品提供技术解决方案，以达至将技术转移给产业应用的目的。
在加入应科院前，王博士於联华电子（UMC）美国分公司系统及架构支援部担任总工程师，负责指导类比及高频集成电路的开发和设计支援工作。王博士并曾先後任职於Rockwell, Conexant, OpNext, HRL, 及 UMC公司，在高速集成电路的发展和管理方面累积了24年经验。王博士和同僚曾率先开发出GaAs异质结双极晶体管技术，现已被广泛应用於手机之功率放大器、光通信集成电路和类比数据转换器上。他建立和领导的IC设计团队，开发了高频率的ADC、DAC和10-40 Gb/s光通信集成电路和产品，以及多项CMOS类比及高频集成电路。
王博士曾获Rockwell颁授1994年模范工程师奖及1995年主席团队奖。他曾参与众多与技术、谘询及社区服务相关的委员会事务。他也曾担任《固态电路杂志》（Journal of Solid State Circuits）的客座编辑。王博士与人合著撰写有关物理、电子器件、电路和系统的期刊和会议论文共150篇。王博士於国立台湾大学取得物理学学士学位，其後於加州理工学院完成学业并取得物理学博士学位。