国家点火装置（NationalIgnition Facility, NIF）的光学工程师为NIF装置的的光学元件开发了一种新的抗反射薄膜，既可以提高传送到靶室的脉冲能量（根据熟悉该计划说，对损伤控制可能使能量提高到2.6兆焦耳，激光脉冲为5ns(目前为3ns)），也有助于保护其他光学元件免受碎片的影响，降低易损部件的更换频率。 NIF主管指出，新的二氧化硅颗粒薄膜将会降低一半以上的需要更换的光学器件，安装团队正在进行新技术的安装，目前已对四分之三的组件进行了升级。

镀反射膜的GDS

研究人员利用Sol-gel工艺制备的薄膜，主要用在NIF的光栅碎片屏蔽（grating debris shields, GDS）组件上。光栅碎片屏蔽组件是NIF的192路激光光束入射靶室的倒数第二个光学元件，除了生成NIF工程师用于监控的诊断光束，它还用于保护其它光学元件，使其免受靶室环境的影响。研究人员开发了“先进缓解工艺（advanced mitigation process, AMP）”，通过去除杂质和减少微裂缝使光学元件表面更具有抗损伤性，从而进一步保护了光学元件。“这些缺陷在暴露于激光下时，会在表面上产生微小的破坏坑，这些凹坑随着重复的激光照射而增长，并限制了光学元件的使用寿命。”他们解释说。

衍射效率

每NIF激光都需要经过一系列复杂的放大器，反射镜和波长转换器，将激光放大并引导到靶室，快速压缩靶，从而实现惯性约束聚变。

GDS组件非常关键：它会衍射少量的激光用于光束诊断，帮助NIF研究人员平衡所有192路光束进入靶室的能量。但是，来自未镀膜GDS的反射会对其他光学器件产生大量的损坏。

LLNL的工程师负责人Marcus Monticelli表示：“这些光栅必须非常稳定。之前保持稳定的方法是使其保持不镀膜的状态，因为涂层的折射率可随时间而变化。这将极大地影响衍射效率，导致NIF上的功率平衡问题。但不镀膜的熔融石英光学元件会反射将近4%的紫外能量，也代表着大量的光能量。其中一些反射光最终会集成在包含最终光学元件的集成光学模块（Integrated Optics Module, IOM）中，产生高亮度的光束，对IOM的玻璃造成损伤。此外，NIF的每次打靶都会对IOM损伤，GDS上会布满来自靶室的爆炸碎片。

当所有涂覆的GDS组件就位时。NIF每年所需的新GDS组件将会从约130个降低到40个，这将极大地减低成本。